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申请/专利权人：淄博松柏电子科技有限公司
摘要：本发明公开了一种改善透明屏蔽膜外观不良的制备方法，它属于电磁屏蔽薄膜技术领域，其解决现有技术中光刻胶被吸附在基材上导致色差以及网格中显影药液残留的问题。它主要包括步骤S1：选取基材，基材的透过率在90％以上；步骤S2：对基材进行电晕处理,通过电晕处理将基材表面达因值控制在32‑40之内；步骤S3：对基材进行镀膜增厚，铜层的厚度范围为2‑7um；步骤S4：设计网格图形，网格图形采用正方形或不规则多边形，其图形边角避免45°以内的锐角；其图形的外接圆直径范围为170‑425um。本发明主要用于避免溶解的光刻胶被吸附在基材上导致色差以及避免显影药液在网格中残留。
主权项：1.一种改善透明屏蔽膜外观不良的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S1：选取基材，基材的透过率在90％以上；步骤S2：对基材进行电晕处理,通过电晕处理将基材表面达因值控制在32-40之内；步骤S3：对基材进行镀膜增厚，铜层的厚度范围为2-7um；步骤S4：设计网格图形，网格图形采用正方形或不规则多边形，其图形边角避免45°以内的锐角；其图形的网格孔径范围为170-425um，线路的宽度范围为3-12um；网格孔径是图形的外接圆直径；步骤S5：减法蚀刻，通过喷淋式减法蚀刻工艺选择性地去除部分铜箔，将铜层蚀刻成步骤S4中设计的网格图形。
全文数据：
权利要求：
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