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申请/专利权人:北京理工大学
摘要:本申请提出了一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用;光谱调制掩膜制备过程包括,根据光谱透过特性向量选择具有光谱调制作用的材料,并将其分别溶解或分散于光刻胶中形成对应的光谱调制光刻胶;根据光谱调制掩膜的空间排列方式设计并加工掩膜版;以晶圆作为光刻衬底,并多次调整掩膜版的位置进行多次套刻,以将多种光谱调制光刻胶套刻固化在晶圆的不同空间位置,形成对入射光的波长进行调制的光谱调制掩膜。本申请利用光刻胶为载体,将具有光谱调制作用的材料制备成光谱调制掩膜,实现低成本,大规模高光谱成像传感器的集成,解决了传统快照式高光谱成像系统低光通量、低空‑谱分辨率、难以大规模集成的缺点。
主权项:1.一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜的制备方法,其特征在于,包括根据光谱透过特性向量选择具有光谱调制作用的材料,并将其分别溶解或分散于光刻胶中形成对应的光谱调制光刻胶;根据光谱调制掩膜的空间排列方式设计并加工掩膜版;以晶圆作为光刻衬底,并多次调整所述掩膜版的位置进行多次套刻,以将多种所述光谱调制光刻胶套刻固化在所述晶圆的不同空间位置,形成对入射光的波长进行调制的光谱调制掩膜。
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权利要求:
百度查询: 北京理工大学 一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用
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