龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：北京理工大学
摘要：本申请提出了一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用；光谱调制掩膜制备过程包括，根据光谱透过特性向量选择具有光谱调制作用的材料，并将其分别溶解或分散于光刻胶中形成对应的光谱调制光刻胶；根据光谱调制掩膜的空间排列方式设计并加工掩膜版；以晶圆作为光刻衬底，并多次调整掩膜版的位置进行多次套刻，以将多种光谱调制光刻胶套刻固化在晶圆的不同空间位置，形成对入射光的波长进行调制的光谱调制掩膜。本申请利用光刻胶为载体，将具有光谱调制作用的材料制备成光谱调制掩膜，实现低成本，大规模高光谱成像传感器的集成，解决了传统快照式高光谱成像系统低光通量、低空‑谱分辨率、难以大规模集成的缺点。
主权项：1.一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜的制备方法，其特征在于，包括根据光谱透过特性向量选择具有光谱调制作用的材料，并将其分别溶解或分散于光刻胶中形成对应的光谱调制光刻胶；根据光谱调制掩膜的空间排列方式设计并加工掩膜版；以晶圆作为光刻衬底，并多次调整所述掩膜版的位置进行多次套刻，以将多种所述光谱调制光刻胶套刻固化在所述晶圆的不同空间位置，形成对入射光的波长进行调制的光谱调制掩膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京理工大学 一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号