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用于存储器重复图形单元关键尺寸的量测方法和量测设备 

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申请/专利权人:深圳市辰中科技有限公司;深圳市晶相技术有限公司

摘要:本发明实施例公开的一种用于存储器重复图形单元关键尺寸的量测方法,包括:配置工作菜单;执行工作菜单对存储器重复图形单元中的待测图形单元沿第一方向的关键尺寸进行量测;其中,工作菜单包括模板图形和模板参数,模板图形包括与待测图形单元相匹配的第一参考图形单元、和与第一参考图形单元相邻的第二参考图形单元,模板参数包括第一参考图形单元上的模板量测对象相关于第一方向的第一位置参数和相关于第二方向的第二位置参数、以及第二参考图形单元上的模板参考对象相关于第二方向的量测值,且第二方向垂直于第一方向。本发明实施例公开的量测方法和量测设备,能够对量测位置在垂直于量测方向的另一个方向上实现精准定位,保证准确量测。

主权项:1.一种用于存储器重复图形单元关键尺寸的量测方法,其特征在于,包括:配置工作菜单;执行所述工作菜单对存储器重复图形单元中的待测图形单元沿第一方向的关键尺寸进行量测;其中,所述工作菜单包括模板图形和模板参数,所述模板图形包括与所述待测图形单元相匹配的第一参考图形单元、和与所述第一参考图形单元相邻的第二参考图形单元,所述模板参数包括所述第一参考图形单元上的模板量测对象相关于所述第一方向的第一位置参数和相关于第二方向的第二位置参数、以及所述第二参考图形单元上的模板参考对象相关于所述第二方向的量测值,且所述第二方向垂直于所述第一方向。

全文数据:

权利要求:

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