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基板处理装置和基板处理装置的维护方法 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法,能够提高干燥单元的维护性。基板处理装置具备干燥单元,所述干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有:压力容器,在该压力容器的内部形成有用于对所述基板进行干燥的干燥室;以及盖体,其用于将所述压力容器的开口封闭。所述基板处理装置具备支承构件,所述支承构件以使所述盖体能够沿与所述开口平行的第一方向及第二方向这两个方向移动的方式支承所述盖体,所述第二方向是与所述第一方向相反的方向。

主权项:1.一种基板处理装置,具备干燥单元,所述干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥,其中,所述干燥单元具有:压力容器,在该压力容器的内部形成有用于对所述基板进行干燥的干燥室;以及盖体,其用于将所述压力容器的开口封闭,所述基板处理装置具备支承构件,所述支承构件以使所述盖体能够沿与所述开口平行的第一方向及第二方向这两个方向移动的方式支承所述盖体,所述第二方向是与所述第一方向相反的方向。

全文数据:

权利要求:

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