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形成氧化镍与氧化镓之间的PN异质结的方法和通过该方法制造的肖特基二极管 

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申请/专利权人:电导魔方股份有限公司

摘要:公开了一种形成氧化镍与氧化镓之间的pn异质结的方法。所述方法包括:通过使用蚀刻掩模蚀刻在n型氧化镓衬底上外延生长的n型氧化镓外延层来形成沟槽,通过在氩气和氧气的混合气体气氛中在所述n型氧化镓外延层上溅射氧化镍靶来在所述沟槽的底部上形成p型氧化镍区域,和通过在氩气气氛中在所述n型氧化镓外延层上溅射镍靶来在所述p型氧化镍区域上形成镍层。

主权项:1.一种形成NiO-Ga2O3异质结的方法,包括:通过使用蚀刻掩模蚀刻在n型氧化镓衬底上外延生长的n型氧化镓外延层来形成沟槽;通过在氩气和氧气的混合气体气氛中,在所述n型氧化镓外延层上溅射氧化镍靶,在所述沟槽的底部上形成p型氧化镍区域;和通过在氩气气氛中,在所述n型氧化镓外延层上溅射镍靶,在所述p型氧化镍区域上形成镍层。

全文数据:

权利要求:

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