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申请/专利权人：株式会社爱发科
摘要：本发明提供一种真空蒸镀装置，其即使在交换移动及扫描移动时的移动速度快也能够尽量抑制蒸镀物质的液面的摇晃，使基板面内的薄膜厚度分布均一性良好且生产性良好地成膜。配置在真空室内、用于使蒸镀物质气化或升华并对被处理基板进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸发源具有：收纳箱，其中填充蒸镀物质且在上表面具有气化的蒸镀物质的放出开口；以及加热机构，其能够加热收纳箱内的蒸镀物质；其具备移动机构，其使收纳箱在第一位置和第二位置之间交换移动，并且使位于第一位置或第二位置的收纳箱在一个方向上扫描移动；收纳箱内设置有分隔部件，其具有比面对放出开口的蒸镀物质的上表面部分更向上方突出的高度，将收纳箱的内部空间分隔成多个小空间。
主权项：1.一种真空蒸镀装置用蒸发源，其配置在真空室内，用于使蒸镀物质气化或升华并对于被处理基板进行蒸镀，其具有收纳箱，其中填充蒸镀物质且在上表面具有气化的蒸镀物质的放出开口，以及加热机构，其能够加热收纳箱内的蒸镀物质；移动机构，其使收纳箱在第一位置和第二位置之间交换移动，并且使位于第一位置或第二位置的收纳箱在一个方向上扫描移动；其特征在于：所述收纳箱内设置有分隔部件，其具有比面对放出开口的蒸镀物质的上表面部分更向上方突出的高度，将该收纳箱的内部空间分隔成多个小空间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社爱发科 真空蒸镀装置用蒸发源及具备该蒸发源的真空蒸镀装置
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