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一种纯相纳米AlN粉体及其制备方法和应用 

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申请/专利权人:大连海事大学

摘要:本发明涉及一种纯相纳米AlN粉体及其制备方法和应用,属于陶瓷粉体制备领域。一种纯相纳米AlN粉体的制备方法,将γ‑Al2O3粉体原料于液相介质中进行预球磨、烘干;再将经预球磨的γ‑Al2O3粉体置于葡萄糖水溶液中继续球磨,然后向球磨后的γ‑Al2O3‑葡萄糖料浆中注入去离子水,超声分散后,将料浆放入反应釜,通过水热法获得C包覆γ‑Al2O3结构的γ‑Al2O3C前驱体;最后,γ‑Al2O3C前驱体在氮气中快速加热,经碳热还原氮化制得纯相纳米AlN粉体。该方法原料易得且价格低廉,无需加入其它助剂,仅通过常规的水热法而无须采用燃烧合成或热裂解法即可获得C包覆γ‑Al2O3结构的γ‑Al2O3C前驱体,成本低,生产过程环保、工艺简单,可操控性强,易实现产业化。

主权项:1.一种纯相纳米AlN粉体的制备方法,其特征在于:将比表面积大于100m2g,平均粒径小于50nm的絮状多孔结构的γ-Al2O3粉体原料于液相介质中进行预球磨、烘干;再将经预球磨的γ-Al2O3粉体置于葡萄糖水溶液中继续球磨,然后向球磨后的γ-Al2O3-葡萄糖料浆中注入去离子水,超声分散后,将γ-Al2O3-葡萄糖料浆倒入反应釜中,在160-200℃保温20-30h后,将所得料浆离心清洗、烘干、过筛,得C包覆γ-Al2O3结构的γ-Al2O3C前驱体;最后,γ-Al2O3C前驱体在氮气中加热,经碳热还原氮化制得纯相纳米AlN粉体,其中,升温速率为30-60℃min,AlN粉体合成温度为1550-1650℃,保温时间为30-120min。

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