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申请/专利权人：武夷学院
摘要：本发明公开了一种Zn2+@PEIPDA修饰合成ZIF‑8膜的方法及在氢气分离中的应用，属于膜分离技术领域。该合成方法为利用Zn2+@PDAPEI为界面层，修饰α‑Al2O3载片，得到被Zn2+@PDAPEI修饰的α‑Al2O3载片，然后采用溶剂热合成法制备ZIF‑8膜。将该ZIF‑8膜用于氢气分离中，具有较高的氢气渗透性和选择性。
主权项：1.一种Zn2+@PEIPDA修饰合成ZIF-8膜的方法，其特征在于，利用Zn2+@PDAPEI为界面层，修饰α-Al2O3载片，得到被Zn2+@PDAPEI修饰的α-Al2O3载片，然后采用溶剂热合成法制备ZIF-8膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武夷学院 一种Zn2+@PEI/PDA修饰合成ZIF-8膜的方法及在氢气分离中的应用
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