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申请/专利权人：艾华(无锡)半导体科技有限公司
摘要：本实用新型涉及ALD设备技术领域，具体为一种反应腔室压力调整装置，包括反应腔室、真空泵和连通所述反应腔室和所述真空泵的排气管道，所述排气管道内设置有环形气路，所述环形气路均匀布置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于向所述排气管道喷出惰性气体形成气帘。通过环形气路经多个喷嘴喷出惰性气体，在排气管道内部形成一个风帘，该风帘可以对反应腔室内的气体抽出形成一定的阻碍作用，风帘的流量越大，阻碍作用越大，如果反应腔室的进气流量不变，那么反应腔室的压力也越大，避免反应腔室内的反应气体快速流失导致反应腔室的压力出现较大波动。
主权项：1.一种反应腔室压力调整装置，其特征在于，包括反应腔室（1）、真空泵（2）和连通所述反应腔室（1）和所述真空泵（2）的排气管道（3），所述排气管道（3）内设置有环形气路（4），所述环形气路（4）均匀布置有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于向所述排气管道（3）喷出惰性气体形成气帘。
全文数据：
权利要求：
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