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申请/专利权人：瑞之路(厦门)眼镜科技有限公司

摘要：本发明提供了具有防护功能的有色薄膜结构的制备方法，包括：设计薄膜结构为：MLp2HLp1HLHp1LMp2或者MLp2HLp1HLHLHp1LMp2；对M和L的厚度进行优化设计；根据薄膜结构所要呈现出的环境颜色调整每一层的光学厚度，对可见光波段光谱分布进行调制；根据设计结果确定出制备薄膜结构所需的结构参数；以表面平整物体作为基底，放置于成膜设备腔体中，接着生长一层脱膜剂于基底上；根据结构参数生长薄膜结构的第一层、第二层……直到最后一层；使用脱膜剂对应的溶剂将脱膜剂溶解，使薄膜结构脱落。本发明还提供具有防护功能的有色薄膜结构和应用，具有隐身和防护功能。

主权项：1.具有防护功能的有色薄膜结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：步骤1、根据用户需求设计薄膜结构，所述薄膜结构为：（ML）p2HLp1HLHp1（LM）p2或者（ML）p2HLp1HLHLHp1（LM）p2，其中，H表示高折射率材料膜层，L表示低折射率材料膜层，M表示中折射率材料膜层，p1表示反射增强单元重复堆叠次数，p2表示抗损伤单元重复堆叠次数，p1和p2为正整数；该薄膜结构为以H或L为中心的对称结构，位于薄膜结构中间的HLp1HLHp1或者HLp1HLHLHp1构成核心反射结构，每组HL或LH构成反射增强单元，每组反射增强单元由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L堆叠而成；位于核心反射结构上方的（ML）p2构成上抗损伤结构，位于核心反射结构下方的（LM）p2构成下抗损伤结构，每组（ML）或（LM）构成抗损伤单元，每组抗损伤单元由中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L堆叠而成；步骤2、对所述抗损伤单元中每个中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的厚度进行优化设计，优化的目标是：（1）通过改变抗损伤单元中的中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的厚度，让薄膜结构内部的电场强度极大值出现在低折射率材料膜层L内；（2）每个抗损伤单元中折射率材料膜层M和低折射率材料膜层L的入射光与反射光的相位差值需要满足干涉相长条件：2qπ，q为整数；步骤3、根据所述薄膜结构所要呈现出的环境颜色调整每一层的最终厚度和光波参数，进而对所述薄膜结构的可见光波段光谱分布进行调制；步骤4、根据设计结果确定出制备所述薄膜结构所需的结构参数，所述结构参数包括总层数、每层采用的材料、每一层的最终厚度和各层之间的分布情况；步骤5、以表面平整物体作为基底，放置于成膜设备腔体中，接着生长一层脱膜剂于基底上；步骤6、根据所述总层数、每层采用的材料、每一层的最终厚度和各层之间的分布情况，在脱膜剂上生长所述薄膜结构的第一层、第二层……直到最后一层；步骤7、使用脱膜剂对应的溶剂将脱膜剂溶解，使所述薄膜结构与脱膜剂脱离，得到单独的所述薄膜结构，并放置于耐高温容器中。

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