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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司
摘要：本发明公开了一种圆形晶圆片用干法刻蚀装置，涉及圆形晶圆片干法刻蚀技术领域，包括主体机构，主体机构包括支撑架，支撑架的上表面固定安装有连接架，连接架的内顶壁固定安装有电动伸缩杆，电动伸缩杆的伸缩端固定安装有刻蚀装置主体，支撑架的上表面固定安装有刻蚀台，刻蚀台的上表面固定安装有静电吸附盘，支撑架的外侧设置有上下料机构；上下料机构包括输料单元，输料单元位于支撑架的外侧，此圆形晶圆片用干法刻蚀装置，通过设置上下料机构的输料单元，能够对圆形晶圆片进行放置输送，使得方便将圆形晶圆片输送至刻蚀处，从而不需要人员对圆形晶圆片进行放置，降低了工作人员的操作复杂程度，提高了圆形晶圆片刻蚀的效率。
主权项：1.一种圆形晶圆片用干法刻蚀装置，包括主体机构（1），其特征在于：所述主体机构（1）包括支撑架（11），所述支撑架（11）的上表面固定安装有连接架（16），所述连接架（16）的内顶壁固定安装有电动伸缩杆（12），所述电动伸缩杆（12）的伸缩端固定安装有刻蚀装置主体（13），所述支撑架（11）的上表面固定安装有刻蚀台（14），所述刻蚀台（14）的上表面固定安装有静电吸附盘（15），所述支撑架（11）的外侧设置有上下料机构（2）；所述上下料机构（2）包括输料单元（21），所述输料单元（21）位于支撑架（11）的外侧，所述输料单元（21）用于对圆形晶圆片进行输送上料；所述上下料机构（2）还包括下料单元（22），所述下料单元（22）位于支撑架（11）的上方，所述下料单元（22）与输料单元（21）配合使用，所述下料单元（22）用于对刻蚀后的圆形晶圆片输送收纳；所述支撑架（11）的上方设置有清洁机构（3），所述清洁机构（3）与上下料机构（2）配合使用，所述清洁机构（3）用于对圆形晶圆片清洁。
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