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申请/专利权人：江苏永鼎股份有限公司
摘要：本发明属于刻蚀管理技术领域，具体是一种GaAs刻蚀工艺仿真工艺及系统，包括仿真平台，仿真平台包括模型构建模块、优化反馈模块、可视化操作模块和运行综合评估模块；本发明通过仿真平台基于GaAs刻蚀仿真模型来分析在相应工艺参数下GaAs刻蚀的结果，优化反馈模块基于仿真结果评估刻蚀工艺的各项性能指标并识别刻蚀工艺中存在的问题，且针对识别出的问题生成相应的优化建议，为半导体制造工艺的优化提供了有力支持，有助于降低制造成本和提高产品质量，且通过运行综合评估模块判断仿真平台的运行表现状况，以提醒管理人员及时加强对仿真平台的监管，保证仿真平台的稳定高效运行，智能化程度高。
主权项：1.一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，包括仿真平台，仿真平台包括模型构建模块、优化反馈模块、可视化操作模块和运行综合评估模块；模型构建模块用于构建GaAs刻蚀仿真模型，并将GaAs刻蚀仿真模型发送至仿真平台进行存储；操作人员通过可视化操作终端将相应工艺参数输入到仿真平台中，仿真平台基于GaAs刻蚀仿真模型来分析在相应工艺参数下GaAs刻蚀的结果，且将仿真结果发送至优化反馈模块和可视化操作模块；优化反馈模块对仿真结果进行深入分析，评估刻蚀工艺的各项性能指标，识别刻蚀工艺中存在的问题，针对识别出的问题生成相应的优化建议，且将问题识别信息和优化建议发送至可视化操作模块；运行综合评估模块对仿真平台进行实时监控，设定检测时期，通过分析判断检测时期内仿真平台的运行表现状况，并生成运行综评异常信号或运行综评正常信号，且将运行综评异常信号或运行综评正常信号经仿真平台发送至管理终端。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏永鼎股份有限公司 一种GaAs刻蚀工艺仿真工艺及系统
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