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申请/专利权人：PSK有限公司
摘要：本发明提供一种用于处理基板的装置，处理基板的装置可以包括：工艺处理部，所述工艺处理部提供处理所述基板的处理空间；以及等离子体发生部，所述等离子体发生部配置于所述工艺处理部的上部，从工艺气体产生等离子体；其中，所述等离子体发生部可以包括：等离子体腔室，所述等离子体腔室在内部形成有放电空间；屏蔽单元，所述屏蔽单元包围所述等离子体腔室的外部；天线，所述天线在所述屏蔽单元的外侧包围所述屏蔽单元并被施加高频电力；以及连接单元，所述连接单元将所述屏蔽单元和所述天线电连接。
主权项：1.一种基板处理装置，其处理基板，其中，包括：工艺处理部，所述工艺处理部提供处理所述基板的处理空间；以及等离子体发生部，所述等离子体发生部配置于所述工艺处理部的上部，从工艺气体产生等离子体；所述等离子体发生部包括：等离子体腔室，所述等离子体腔室在内部形成有放电空间；屏蔽单元，所述屏蔽单元包围所述等离子体腔室的外部；天线，所述天线在所述屏蔽单元的外侧包围所述屏蔽单元，高频电力施加在所述天线；以及连接单元，所述连接单元将所述屏蔽单元和所述天线电连接。
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