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申请/专利权人：PSK有限公司
摘要：本发明提供一种基板处理装置及控制基板处理装置的方法，本发明的控制基板处理装置的方法可以包括：卡盘移动步骤，将所述基板放置在下部电极上，并将所述下部电极移动至预设定的高度，间隔测量步骤，测量所述基板的上表面和位于所述下部电极的上方的电介质板之间的间隔，校正与否判断步骤，将在所述间隔测量步骤中测量的所述间隔与预先存储的工艺配方进行比较，以判断是否需要进行用于校正所述间隔的校正动作，以及校正步骤，在判断为需要进行所述校正动作的情况下，移动所述下部电极，以使所述间隔与所述工艺配方相适应；所述校正步骤在利用等离子体处理所述基板的第二时间段期间执行。
主权项：1.一种基板处理装置，其中，包括：腔室，具有处理空间，下部电极，在所述处理空间支撑基板，电介质板，位于所述下部电极的上方，高频电源，在所述处理空间产生等离子体，驱动器，通过调节所述下部电极和所述电介质板中任一个的高度，来调整所述下部电极和所述电介质板之间的间隔，间隔测量单元，测量放置在所述下部电极上的基板的上表面和所述电介质板之间的间隔，以及控制器，根据所述间隔测量单元所测量的测量值来产生向所述驱动器传送的控制信号，其中，所述控制信号用于校正放置在所述下部电极上的基板的上表面和所述电介质板之间的间隔；所述控制器在所述高频电源产生等离子体的第二时间段产生所述控制信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： PSK有限公司 基板处理装置及控制基板处理装置的方法
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