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一种基于超表面的高光消除方法和系统 

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申请/专利权人:西安交通大学

摘要:本发明公开了一种基于超表面的高光消除方法和系统,属于光学三维测量技术领域。本发明公开的高光消除方法通过可调谐超表面器件主动调制投射光场的偏振态,使投射光场经被测对象表面反射后的高光分量和非高光分量的偏振态差异化最大,进而通过成像端的偏振片滤除镜面反射高光分量并保证非高光分量的强度不损失,从而实现光学三维测量中的高光消除,并提高测量精度。本发明的逐像素投影光场偏振态自适应调制方法,在不减弱非高光分量强度的前提下实现了高光消除,有效解决了针对高动态范围表面光学三维测量精度下降甚至失效的问题。

主权项:1.一种基于超表面的高光消除方法,其特征在于,包括以下步骤:向被测物投影白图和黑图,获得成像饱和区域轮廓和最大投影亮度值,将最大投影亮度下的低亮度条纹图投影至被测物表面成像,建立投影端-成像端的像素坐标映射;依据投影端和成像端的像素坐标映射关系,将相机像面饱和区域轮廓像素反演出投影端像面需调制的区域,再根据高光区域在被测物体中的位置反演出高光区域投影端和成像端的角度关系以及对应投射光线的偏振态;统计投影端高光区域内没有建立投影-相机映射关系的孔洞投影像素点,结合孔洞投影像素点邻域像素的投影偏振态进行插值填补;在投影端像面饱和区域与非饱和区域之间增设偏振态过渡区间,并对偏振态过渡区间内像素的投射光线偏振态进行平滑,确定出整个光场的最优投影偏振态分布;通过高光探测与投影端偏振态反演结果,控制投影端可调谐超表面出射光线的偏振态,使其随被测曲面与测量视角的改变产生自适应变化;投影光场经逐像素偏振态调整后,生成自适应投影条纹图,并投影至被测物表面,在成像端通过偏振片的透光方向的调整以滤除高光反射分量,进而通过滤除高光后的条纹成像图解算出被测物的三维点云数据。

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