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申请/专利权人：合肥中聚和成电子材料有限公司
摘要：本发明公开了一种酸性铜蚀刻液及其制备方法，属于金属表面化学处理技术领域，该酸性铜蚀刻液包括以下质量百分比的原料：氯化铜3～6%、盐酸5～10%、氯化镧0.5～1%、氯化钠1～3%、氯化铵2～3%、N,N‑二2‑吡啶甲基乙二胺0.01～0.5%、双硫脲改性壳聚糖2～5%、表面活性剂0.1～2%、氮杂冠醚0.5～1.5%、N,N‑二甲基甲酰胺4～8%、余量为去离子水；制备过程将上述原料按照比例混合即可，本发明提供的酸性铜蚀刻液对液晶面板蚀刻时，能够降低侧蚀量，并避免了复杂沟道蚀刻后有残渣的问题，此外，本发明制备酸性铜蚀刻液的方法简单易行，原料易得，对环境污染小。
主权项：1.一种酸性铜蚀刻液，其特征在于，包括以下原料：氯化铜、盐酸、氯化镧、氯化钠、氯化铵、N,N-二2-吡啶甲基乙二胺、双硫脲改性壳聚糖、表面活性剂、氮杂冠醚、N,N-二甲基甲酰胺、去离子水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥中聚和成电子材料有限公司 一种酸性铜蚀刻液及其制备方法
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