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申请/专利权人：陈湛
摘要：本申请涉及一种抛光碳化硅的方法。所述抛光方法包含使用一种抛光垫和含高锰酸盐的抛光液，所述抛光垫由热塑性聚氨酯制成，其孔隙度小于1％且其接触面积与非接触面积之比小于3。
主权项：1.一种抛光碳化硅的方法，该方法使用一种抛光垫和抛光液，其特征在于：A.该抛光垫由热塑性聚氨酯制成，且B.该抛光垫的孔隙度小于1％，且C.该抛光垫与待抛光样品发生相对位移的部分有表面凹陷的非接触区域和与抛光样品接触的区域，该与抛光样品接触的区域的面积与非接触区域的面积之比小于3D.该抛光液含高锰酸盐提供待抛光的碳化硅表面和上述抛光垫，在该碳化硅表面和抛光垫的抛光面之间引入上述抛光液，并使该碳化硅表面与上述抛光垫的抛光面接触并相对移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 陈湛 一种碳化硅抛光的方法
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