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申请/专利权人：塞姆西斯科有限责任公司
摘要：本公开涉及一种用于在对基底1进行化学和或电解表面处理时固持基底1的基底支架S1，包括基底支架S1和浸没式扫描单元S2的基底处理系统以及基底支架S1用于固持宽度在1000至3500mm范围内且长度在1000至4000mm范围内的基底1的用途。用于在对基底1进行化学和或电解表面处理时固持基底1的基底支架S1包括基底载台2和电力接触单元3。基底载台2包括用于承载基底1的框架2a。电力接触单元3包括主体3a、多个主腿3b以及多个侧腿3c，所述主腿3b从所述主体3a至少部分地沿着所述基底载台2的边缘延伸，每个侧腿3c基本垂直于其中一个主腿3b设置以接触所述基底1。电力接触单元3还包括多个保持元件3d，所述多个保持元件3d设置在所述电力接触单元3的主体3a与所述基底载台2的框架2a之间，以在所述基底1被放置到所述基底载台2上时保持所述基底1与所述电力接触单元3接触。
主权项：1.一种用于在对基底1进行化学和或电解表面处理时固持基底1的基底支架S1，包括：-基底载台2，以及-电力接触单元3，其中，所述基底载台2包括用于承载基底1的框架2a，其中，所述电力接触单元3包括主体3a、多个主腿3b以及多个侧腿3c，所述主腿3b从所述主体3a至少部分地沿着所述基底载台2的边缘延伸，每个侧腿3c基本垂直于其中一个主腿3b设置以接触所述基底1，以及其中，所述电力接触单元3还包括多个保持元件3d，所述多个保持元件3d设置在所述电力接触单元3的主体3a与所述基底载台2的框架2a之间，以在所述基底1被放置到所述基底载台2上时保持所述基底1与所述电力接触单元3接触。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 塞姆西斯科有限责任公司 用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时固持基底的基底支架
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