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申请/专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司

摘要：本发明涉及一种ALD喷淋组件，包括基板、盖板及第一进气件。盖板密封连接于基板且覆盖开口，待加工件放置于反应腔内，反应气体从第一进气孔进入进气腔后，进气腔会提供给反应气体一个缓冲空间，经过进气腔缓冲后的气体分布更加均匀。同时，从第一出气口排出的反应气体通过多个第一连通孔进入反应腔，进一步地提高了进入反应腔内的反应气体的均匀性，从而确保了反应腔内的反应气体与待加工件之间的接触更加均匀，使得最终反应气体在待加工件上生成的薄膜更加均匀，提高了薄膜的质量。本发明还涉及一种ALD镀膜设备。

主权项：1.一种ALD喷淋组件，其特征在于，包括：基板，具有反应腔及与所述反应腔连通的开口，所述反应腔用于容置待加工件；盖板，密封连接于所述基板具有所述开口的一侧，且覆盖所述开口，所述盖板具有与所述反应腔连通的多个第一连通孔；第一进气件，密封连接于所述盖板远离所述基板的一侧，且所述第一进气件具有至少两个进气腔及与所述进气腔连通的至少两个第一进气孔和第一出气口，两个所述进气腔沿与所述盖板平行的第二方向垂直的第三方向间隔设置，每一所述第一进气孔和每一所述第一出气口与对应的所述进气腔连通，所述第一进气孔用于向所述进气腔输入反应气体，所述第一出气口与每一所述第一连通孔连通，所述第一进气件朝向所述盖板的一侧具有第一连接槽，所述盖板朝向所述第一进气件的一侧具有与每一所述第一连通孔连通的第二连接槽，所述第一连接槽与所述第二连接槽对应并连通，以围合形成连接空间，所述第一出气口与所述连接空间连通；及第一隔板，连接于所述盖板，且位于所述第二连接槽内，所述第一隔板用于将所述连接空间分隔成上层空间、下层空间及连通所述上层空间和所述下层空间的连通间隙，所述第一隔板开设有与所述下层空间连通的导通口，其中一所述第一出气口与所述上层空间连通，其中另一所述第一出气口与所述导通口连通；其中，所述第一进气件具有顶壁及由所述顶壁的边缘向同一侧延伸的侧壁，所述顶壁和所述侧壁围合形成所述进气腔以及连通所述进气腔的所述第一出气口，所述第一进气孔开设于所述进气腔的侧壁，多个所述第一连通孔沿与所述盖板平行的所述第二方向间隔排布，所述进气腔的顶壁自开设所述第一进气孔的侧壁起沿所述第二方向延伸并逐渐接近所述盖板。

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