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成膜装置 

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申请/专利权人:住友重机械工业株式会社

摘要:本发明提供一种能够提高膜质量的成膜装置。在成膜装置1中,气体供给部40从主炉缸17侧朝向被引导至该主炉缸17的等离子体P供给包含构成膜的元素的气体。此时,气体供给部40能够向等离子体密度高的区域供给气体。由于被供给至该区域的气体的活性度提高,因此能够抑制基板11中的膜的元素的缺陷。综上所述,能够提高膜质量。

主权项:1.一种成膜装置,其使成膜材料的粒子附着于对象物而形成膜,所述成膜装置具备:等离子体生成部,生成等离子体;电极,能够保持所述成膜材料的同时将所述等离子体引导至所述成膜材料;及气体供给部,从所述电极侧朝向被引导至所述电极的所述等离子体供给包含构成所述膜的元素的气体,所述气体供给部在接受所述等离子体的所述电极侧的位置中,从与被该电极接受的所述等离子体的行进方向相反的一侧供给所述气体。

全文数据:

权利要求:

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