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半导体器件 

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申请/专利权人:三星电子株式会社

摘要:提供了一种半导体器件,所述半导体器件包括:衬底,所述衬底具有第一区域和第二区域;第一晶体管,所述第一晶体管包括设置在所述第一区域中的单个第一有源鳍、与所述单个第一有源鳍相交的第一栅电极以及设置在所述单个第一有源鳍的第一凹陷中的单个第一源极漏极层;以及第二晶体管,所述第二晶体管包括设置在所述第二区域中的多个第二有源鳍、与所述多个第二有源鳍相交的第二栅电极以及分别设置在所述多个第二有源鳍的第二凹陷中的多个第二源极漏极层。所述单个第一有源鳍和所述多个第二有源鳍可以具有第一导电类型,并且所述第一凹陷的深度可以小于每一个所述第二凹陷的深度。

主权项:1.一种半导体器件,包括:衬底,所述衬底具有第一区域和第二区域;第一晶体管,所述第一晶体管包括设置在所述第一区域中的单个第一有源鳍、与所述单个第一有源鳍相交的第一栅电极以及在所述第一栅电极两侧设置在所述单个第一有源鳍的第一凹陷中的单个第一源极漏极层;以及第二晶体管,所述第二晶体管包括设置在所述第二区域中的多个第二有源鳍、与所述多个第二有源鳍相交的第二栅电极以及在所述第二栅电极两侧分别设置在所述多个第二有源鳍的第二凹陷中的多个第二源极漏极层,其中,除了所述单个第一有源鳍之外,所述第一晶体管不再包括与所述第一栅电极相交的有源鳍,其中,所述单个第一有源鳍和所述多个第二有源鳍具有第一导电类型,并且所述第一凹陷的深度小于每一个所述第二凹陷的深度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星电子株式会社 半导体器件

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