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一种混合键合结构及其制备方法 

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申请/专利权人:中国科学院深圳先进技术研究院

摘要:本发明公开了一种混合键合结构及其制备方法。所述混合键合结构包括相对设置的第一衬底和第二衬底,所述第一衬底和第二衬底上分别设置第一键合层和第二键合层,二者键合形成键合界面;第一键合层和或所述第二键合层中设置有具有110晶面择优取向的铜键合点,所述铜键合点包括孪晶组织,孪晶组织包括孪晶片层,孪晶片层主要沿晶粒生长方向夹角45°分布;具有所述孪晶片层的晶粒在所述铜键合点的晶粒总数中的占比≥50%,和或所述孪晶组织的体积占所述铜键合点总体积的比值≥50%。本发明的混合键合结构能够有效地提高芯片间的结合力,同时能保证较好的电气连接,而且铜键合点具有优异的组织热稳定性和力学性能,提升了服役可靠性。

主权项:1.一种混合键合结构,其特征在于,所述混合键合结构包括相对设置的第一衬底和第二衬底,所述第一衬底上设置有第一键合层,所述第二衬底上设置有第二键合层,所述第一键合层与所述第二键合层键合形成键合界面;所述第一键合层和或所述第二键合层中设置有铜键合点,所述铜键合点具有110晶面择优取向,所述铜键合点包括孪晶组织,所述孪晶组织包括孪晶片层,所述孪晶片层主要沿晶粒生长方向夹角45°分布;具有所述孪晶片层的晶粒在所述铜键合点的晶粒总数中的占比≥50%,和或所述孪晶组织的体积占所述铜键合点总体积的比值≥50%。

全文数据:

权利要求:

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