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申请/专利权人：江苏宏基高新材料股份有限公司

摘要：本申请涉及一种半导体用等静压石墨坩埚打磨控制系统，涉及等静压石墨的技术领域，包括打磨箱、控制模块、打磨模块、喷淋模块和负压模块，打磨模块用于对坩埚表面进行打磨，喷淋模块用于对坩埚表面进行喷淋，打磨箱的下方设置排出管，排出管上设有三通阀，负压模块通过三通阀的一出口和打磨箱相连通，控制模块控制打磨模块对坩埚进行打磨，并控制负压模块对打磨箱内进行抽吸，使得打磨箱内处于负压，在打磨完成后，控制喷淋模块对坩埚表面进行喷淋，并控制三通阀切换，使得喷淋液从三通阀的另一出口排出。本申请具有能够减低粉尘飘散至车间的概率的优点。

主权项：1.一种半导体用等静压石墨坩埚打磨控制系统，其特征在于：包括打磨箱、控制模块、打磨模块、喷淋模块和负压模块，打磨模块用于对坩埚表面进行打磨，喷淋模块用于对坩埚表面进行喷淋，打磨箱的下方设置排出管，排出管上设有三通阀，负压模块通过三通阀的一出口和打磨箱相连通，控制模块控制打磨模块对坩埚进行打磨，并控制负压模块对打磨箱内进行抽吸，使得打磨箱内处于负压，在打磨完成后，控制喷淋模块对坩埚表面进行喷淋，并控制三通阀切换，使得喷淋液从三通阀的另一出口排出；还包括烘干模块，在喷淋完成后，控制模块控制三通阀切换，并控制烘干模块对坩埚表面进行热风吹拂，同时控制负压模块工作，对打磨箱内的气体进行抽吸，使打磨箱处于负压状态；还包括转移模块，在喷淋完成后，控制模块控制烘干模块对坩埚的外表面进行烘干，在外表面烘干完成后，控制模块发送信号至转移模块，转移模块响应控制模块的信号，将坩埚翻转，使得坩埚的开口向下，烘干模块对坩埚内部进行烘干；在对坩埚内部进行烘干时，分为高速低温阶段和低速高温阶段，高速低温阶段的风速大于低速高温阶段的风速，高速低温阶段的气体温度小于低速高温阶段的气体温度；在高速低温阶段，烘干模块从坩埚的开口处移动至坩埚的底部，使得坩埚内部表面的清洁液滴快速扩散呈膜状；在低速高温阶段，烘干模块停留在坩埚的底部达到预设时间后，烘干模块向坩埚的开口处移动；烘干模块包括顶部烘干单元和周向烘干单元，在当烘干模块移动至坩埚的开口处时，周向烘干单元对坩埚的开口处进行烘干至预设时间，随后，顶部烘干单元对坩埚的开口所在平面进行烘干。

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