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一种液相法生长碳化硅的坩埚内壁面形状确定方法和装置 

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申请/专利权人:西安交通大学

摘要:本申请提供了一种液相法生长碳化硅的坩埚内壁面形状确定方法和装置,涉及单晶生长技术领域,所述方法包括:获取液相法生长碳化硅系统的坩埚内壁面的形状参数以及结构信息;形状参数包括:坩埚内壁面的内径和圆角半径;建立几何模型,设置传热流动控制方程和组分输运控制方程,得到各组形状参数所对应的数值计算模型;模拟传热流动与组分输运过程,得到各个数值计算模型所对应的模拟结果;根据模拟结果,计算第一指标参数、第二指标参数和第三指标参数;第一指标参数为晶体生长速度最大不均匀率,第二指标参数为单位时间内晶体总析出量,第三指标参数为晶体生长速度标准差;根据第一、第二和第三指标参数,确定最佳形状参数。

主权项:1.一种液相法生长碳化硅的坩埚内壁面形状确定方法,其特征在于,所述方法包括:获取液相法生长碳化硅系统的坩埚内壁面的形状参数以及结构信息;所述形状参数包括:坩埚内壁面的内径和圆角半径;通过改变所述坩埚内壁面的内径或圆角半径,得到多组不同的所述形状参数;根据所述形状参数和所述结构信息,建立各组所述形状参数所对应的几何模型,并对所述几何模型进行计算网格划分,设置所述几何模型中对应计算网格的边界条件,设置传热流动控制方程和组分输运控制方程,得到各组所述形状参数所对应的数值计算模型;分别基于不同的所述形状参数所对应的数值计算模型,模拟传热流动与组分输运过程得到各个数值计算模型所对应的模拟结果;根据所述模拟结果,计算第一指标参数、第二指标参数和第三指标参数;所述第一指标参数为碳化硅晶体生长速度最大不均匀率,所述第二指标参数为单位时间内碳化硅晶体总析出量,所述第三指标参数为碳化硅晶体生长速度的标准差;根据不同的所述形状参数所对应的所述第一指标参数、所述第二指标参数和所述第三指标参数,确定所述液相法生长碳化硅系统中坩埚内壁面的最佳形状参数。

全文数据:

权利要求:

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