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申请/专利权人：凸版光掩模有限公司
摘要：提供雾度缺陷少、即能够充分地抑制雾度的产生的相移掩模以及该相移掩模的制造方法。本实施方式涉及的相移掩模100具备：基板11、在基板11上形成且具备电路图案的相移膜12、以及在相移膜12的上面12t和侧面12s形成的保护膜13，相移膜12对于透射的曝光光能够分别调节预定量的相位和透射率，保护膜13含有选自钽金属、钽化合物、钨金属、钨化合物、碲金属、以及碲化合物中的至少1种，在将相移膜12的膜厚设为d1、将保护膜13的膜厚设为d2时，d2比d1薄，d2为15nm以下。
主权项：1.一种相移掩模，其是适用于波长为200nm以下的曝光光、具备电路图案的相移掩模，特征在于，具备：透明基板、在所述透明基板上形成且具备电路图案的相移膜、以及在所述相移膜的上面和侧面形成的气体透过保护膜，所述相移膜对于透射的曝光光能够分别调节预定量的相位和透射率，所述气体透过保护膜含有选自钽金属、钽化合物、钨金属、钨化合物、碲金属、以及碲化合物中的至少1种，在将所述相移膜的膜厚设为d1、将所述气体透过保护膜的膜厚设为d2时，d2比d1薄，d2为15nm以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 凸版光掩模有限公司 相移掩模以及相移掩模的制造方法
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