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申请/专利权人：宁波工程学院
摘要：本发明公开了一种用于测量深小孔粗糙度的设备及其测量方法，包括：线光源，待测产品，以及半透半反射镜，所述待测产品具有深小孔，且深小孔面向半透半反射镜设置；半透半反射镜并承接平行光后形成测试出射光路和参考出射光路，测试出射光路朝向待测产品的孔底，并经过孔底反射形成测试反射光路，测试反射光路经过半透半反射镜形成测试成像光路；还包括参考组件和干涉显示平台，干涉显示平台设置在半透半反射镜下方；参考组件包括标准板，参考出射光路经过标准板反射并穿过半透半反射板后形成参考成像光路；所述干涉显示平台承接测试成像光路和参考成像光路，参考成像光路与待测成像光路在干涉显示平台上形成平行或非平行的干涉条纹。
主权项：1.一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于，包括：用于输出平行光的线光源1，设置在工装板8上的待测产品2，以及布置在线光源1与待测产品2之间的半透半反射镜3，所述待测产品2具有深小孔2.1，且所述深小孔2.1面向半透半反射镜3设置；所述半透半反射镜3倾斜设置并承接平行光后形成测试出射光路A1和参考出射光路B1，所述测试出射光路A1朝向待测产品2的孔底，并经过孔底反射形成测试反射光路A2，所述测试反射光路A2经过半透半反射镜3形成测试成像光路A3；还包括布置在测试成像光路A3和参考出射光路B1的延伸方向上的参考组件和干涉显示平台5，所述干涉显示平台5设置在半透半反射镜3下方；所述参考组件包括布置在半透半反射镜3上方的标准板6，所述参考出射光路B1经过标准板6反射并穿过半透半反射板后形成参考成像光路B3；所述干涉显示平台5承接测试成像光路A3和参考成像光路B3，所述参考成像光路B3与待测成像光路在干涉显示平台5上形成平行或非平行的干涉条纹。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波工程学院 一种用于测量深小孔粗糙度的设备及其测量方法
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