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申请/专利权人：上海明士华新材料有限公司
摘要：本申请公开一种光敏聚合物及其制备方法、用途、黑色光刻胶，所述光敏聚合物的结构式包括第一结构单元和第二结构单元，所述第一结构单元的结构式如式I‑1或式I‑2所示；所述第二结构单元的结构式如式II所示；其中：R1~R4独立地选自氢、羟基、甲基或甲氧基；R5和R6独立地选自甲基、乙基、丙基、；R7~R10独立地选自氢、羟基、氨基、羧基、甲基、甲氧基或苯基；X选自苯基、联苯基、联苯醚基或联苯硫醚基；m和n独立地选自1~1000的整数，且所述光敏聚合物的重均分子量为27000~35000。本申请所述的光敏聚合物用于制备黑色光刻胶时，不仅可以提高OD值，还能够实现低温固化，同时还兼具较好的光刻性能、力学性能、热性能、介电性能及耐化性。
主权项：1.一种光敏聚合物，其特征在于，其结构式包括第一结构单元和第二结构单元，所述第一结构单元的结构式如式I-1或式I-2所示： ； ；所述第二结构单元的结构式如式II所示： ；其中：R1~R4为氢；R5和R6独立地选自甲基、乙基、丙基、；R7和R8为羟基；R9和R10为氨基；X选自苯基、联苯基、联苯醚基或联苯硫醚基；m和n独立地选自1~1000的整数，且所述光敏聚合物的重均分子量为27000~35000；所述光敏聚合物通过以下方法制备得到：使二酐单体和醇类物质反应得到二羧基酯；使所述二羧基酯和酰氯化试剂反应得到二酰氯酯；使所述二酰氯酯和第一二胺单体、第二二胺单体反应得到所述光敏聚合物；其中所述二酐单体的摩尔数与所述第一二胺单体和所述第二二胺单体的总摩尔数之比为1.05~1.2:1，且所述第一二胺单体和所述第二二胺单体的摩尔比为6.5~7:3~3.5。
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权利要求：
百度查询： 上海明士华新材料有限公司 光敏聚合物及其制备方法、用途、黑色光刻胶
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