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申请/专利权人：重庆文理学院
摘要：一种核用锆合金表面的Cr‑Si系涂层，是以Cr靶和Si靶通过磁控溅射制得，涂层中Si的含量控制在7.5~22.0at.%，所述Cr靶和Si靶的电源驱动分别为直流电源和射频电源，其中Cr靶的溅射功率为300W，Si靶的功率为100~300W。本发明通过在锆合金基体表面制备的Cr‑Si涂层，具有优异的高温抗氧化性能，氧化过程中，在基体和涂层的界面形成了Cr2O3SiO2双氧化层，有效延缓了Cr2O3的失效，在1200℃水蒸气环境下进行氧化，氧化增重低至1.4mgcm2，同时通过Si的掺杂，有效提高了涂层的机械性能，硬度达到14.64GPa，增强了其耐磨减摩性能。
主权项：1.一种核用锆合金表面的Cr-Si系涂层的制备方法，其特征在于：通过磁控溅射，以Cr靶和Si靶，在锆合金基底表面溅射沉积出Si含量为7.5~22.0at.%的Cr-Si系涂层，所述Cr靶和Si靶的电源驱动分别为直流电源和射频电源，其中Cr靶的溅射功率为300W，Si靶的功率为100~300W，所述磁控溅射的真空度为8×10-4Pa，沉积温度为380~420℃，基体偏压为-40~-60V，沉积气压为0.3~0.5Pa，沉积时间为4~6h。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 重庆文理学院 一种核用锆合金表面Cr-Si系涂层及其制备方法
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