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表面处理设备 

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申请/专利权人:馗鼎奈米科技(深圳)有限公司

摘要:一种高速、均匀且高品质的表面处理设备。此设备包含一个圆管形中空腔体,腔体内置有一个可自转的多边形中空柱体,柱体上以对称方式设有数个可以放置各种平面型基板的承载单元,因此基板承载单元会随着中空柱体的自转而进行公转。我们在固定不动的腔体壁上装入各种气体注入通道、抽气管道以及表面处理装置,排列方式对应于柱体上各个基板承载单元的位置。所以,当各个基板承载单元公转时,平面基板与腔体壁所形成的处理腔室会规律的进行进气、反应与抽气等步骤的多次循环,因此可使平面基板进行多循环的表面处理。

主权项:1.一种表面处理设备,其特征在于,该表面处理设备包含:一腔体,具有一腔室以及多个气体通道,其中该些气体通道穿设于该腔体中且环绕该腔室并与该腔室流体连通;至少一可自转中空柱体设于该腔室中,其中该至少一可自转中空柱体包含:一主体,包含多个分隔部;以及多个基板承载单元,环设于该主体的一外侧面上,且配置以承载多个基板,其中该些分隔部分别介于相邻的该些基板承载单元之间,每一该些基板承载单元与该腔体的一内侧面定义出一处理腔室;以及多个处理模块,配置以分别经由该些气体通道供应多个表面处理剂给该些处理腔室,其中每一该些基板承载单元的一承载面的一法线与该至少一可自转中空柱体的一转动轴非平行,进行一表面处理制程时,该至少一可自转中空柱体会自转,使每一该些基板依序暴露于该些表面处理剂,每一该些基板因自转离开原面对的该气体通道到达下一个将面对的该气体通道期间,该基板所在的该处理腔室会经历抽气的动作。

全文数据:

权利要求:

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