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一种水下高分辨形变测量用防辐射摄像系统 

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申请/专利权人:中国科学院西安光学精密机械研究所

摘要:本发明涉及水下测量摄像系统,具体涉及一种水下高分辨形变测量用防辐射摄像系统,解决现有激光三角测量系统的摄像系统无法满足在水下强辐射环境进行稳定测量的同时兼顾系统简易化的问题,本发明包括与竖直平面具有锐角夹角A的平板窗口、设置在平板窗口透射光路上且与竖直平面具有锐角夹角B的反射镜,且A=2B;反射镜的反射光路上依次设有第一至第五透镜,目标物表面反射的激光光线通过平板窗口后经反射镜进入第一透镜,然后激光光线依次经过第一透镜至第五透镜最终聚焦在相机的成像面上。核辐射的射线遇到反射镜时不会发生反射进入透镜组内,所以避免了核辐射射线对于成像的影响,整个透镜组仅使用五个透镜,同时满足了系统简易化的需求。

主权项:1.一种水下高分辨形变测量用防辐射摄像系统,通过目标物表面反射的激光光线对目标物表面形变进行测量,其特征在于:包括平板窗口1、反射镜2、透镜组以及相机8;所述平板窗口1与竖直平面具有锐角夹角A,所述反射镜2设置在平板窗口1的透射光路上,反射镜2与竖直平面具有锐角夹角B,且A=2B;所述透镜组包括依次设置在反射镜2反射光路上的第一透镜3至第五透镜7,由目标物表面反射的激光光线通过平板窗口1后经反射镜2反射进入第一透镜3,然后激光光线依次经过第一透镜3至第五透镜7最终聚焦在相机8的成像面上,相机8的成像面与光路的中心光轴具有锐角夹角C,且83°<C<85°;所述第一透镜3为正光焦度的双凸透镜,第二透镜4为负光焦度且出射面为凹面的弯月透镜,第三透镜5为负光焦度且出射面为凹面的弯月透镜,第四透镜6为负光焦度的双凹透镜,第五透镜7为正光焦度的双凸透镜;所述第一透镜3入射面到相机8成像面在光路的中心光轴上的距离T1满足4.9<2T1H<9.1且4.2<T1EPD5.5;其中:H为系统预设成像高度,其取值范围为33-37.4mm;EPD为系统预设入瞳直径,取值范围为27-33mm;平板窗口1的出射面一侧到第一透镜3入射面一侧在光路的中心光轴上的距离为T2,且100mm<T2<140mm;所述第五透镜7出射面到相机8成像面在光路的中心光轴上的距离为T3,且35mm<T3<90mm;所述第三透镜5出射面的有效半口径SD1和第三透镜5出射面到第四透镜6入射面在光路的中心光轴上的距离T4满足:1.65<SD1T4<3.5;第四透镜6出射面的有效半口径SD2和第五透镜7入射面的有效半口径SD3满足:0.7<SD2SD3<1.2。

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权利要求:

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