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一种氧化铟锡靶材强度增加的烧结工艺方法 

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申请/专利权人:芜湖映日科技股份有限公司

摘要:本发明涉及靶材技术领域,具体涉及一种氧化铟锡靶材强度增加的烧结工艺方,使用碳化硅横梁+氧化铝垫片的方式代替传统的氧化铝承烧板+氧化铝垫片,并且使用梯度升温烧结,之后烧结降温速率为0.4‑0.6℃min,待炉内温度<10℃后,下降炉床。使用本发明烧结工艺制备的氧化铟锡靶材抗拉强度高达166.89Mpa,内部无异常且生产良率90%以上。

主权项:1.一种氧化铟锡靶材强度增加的烧结工艺方法,其特征在于,所述烧结工艺方法的具体步骤如下:将氧化铟锡素胚固定于常压氧气气氛的高温烧结炉中的基台上进行烧结,所述基台为碳化硅横梁和氧化铝垫片,所述碳化硅横梁交叉摆放在炉床支柱上,各横梁之间距离为20-30mm,在碳化硅横梁上,摆放氧化铝垫片,采用梯度升温,到达烧结温度后,保温,烧结结束后降温,降温速率0.4-0.6℃min,待炉内温度<10℃,下降炉床,取出氧化铟锡靶材;所述氧化铟锡靶材的靶材抗拉强度为165.32-166.89Mpa;所述氧化铟锡素胚中氧化铟粉末和氧化锡粉末的重量比为97:3;所述梯度升温为:200-700℃,升温速率为0.08-0.13℃min,700-1580℃,升温速率为0.25-0.35℃min。

全文数据:

权利要求:

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