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申请/专利权人：江苏优柯半导体科技有限公司
摘要：本实用新型属于晶圆材料加工技术领域，具体涉及一种晶圆材料的清洗装置。本实用新型包括带有清洗凹槽的清洗支架；高度调节组件；清洗盘组件；旋转电机；摆动电机，安装在清洗支架上，通过V型摆臂带动喷水组件和喷气组件在清洗凹槽内摆动；喷水组件安装在V型摆臂的末端，喷气组件的喷气口朝向喷水组件对应的清洗盘组件上。本实用新型通过安装在V型摆动臂上的喷水组件对晶圆材料进行喷水清洗，同时在该V型摆动臂上设置有喷气组件，在使用时，喷气组件的喷气口朝向喷水组件对应的清洗盘组件上，喷气组件能够实时的将清洗后的晶圆材料进行吹干，有效的避免了清洗后的晶圆材料表面残存水渍的问题，保证了清洗后的晶圆材料的清洁度。
主权项：1.一种晶圆材料的清洗装置，其特征在于，包括：带有清洗凹槽11的清洗支架1；高度调节组件2，安装在所述清洗支架1上；清洗盘组件3，设置在所述清洗支架1的清洗凹槽11内，且安装在所述高度调节组件2的输出端；旋转电机4，通过轴承转动安装在所述高度调节组件2上，且所述旋转电机4的输出轴与所述清洗盘组件3同轴设置；摆动电机5，安装在所述清洗支架1上，通过V型摆臂6带动喷水组件7和喷气组件8在所述清洗凹槽11内摆动；其中，所述喷水组件7安装在所述V型摆臂6的末端，所述喷气组件8的喷气口朝向所述喷水组件7对应的清洗盘组件上。
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权利要求：
百度查询： 江苏优柯半导体科技有限公司 一种晶圆材料的清洗装置
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