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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：提供了一种半导体装置的形成方法及光阻剂组成物。用于形成半导体装置的方法包括在基板上方形成包含有机金属化合物的光阻层。有机金属化合物包括金属芯、至少一种与金属芯键合的可水解配位基、以及至少一种与金属芯键合的光酸产生剂配位基。此方法还包括选择性地将光阻层曝光辐射下并对光阻层进行显影以在光阻层中形成图案。
主权项：1.一种形成一半导体装置的方法，其特征在于，包含：形成一光阻层于一基板上方，该基板包含一有机金属化合物，其中该有机金属化合物包含：一金属芯；至少一可水解配位基，键结至该金属芯；以及至少一光酸产生剂配位基，键结至该金属芯；选择性地于一辐射下曝光该光阻层；以及显影该光阻层以在该光阻层中形成一图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体装置的形成方法及光阻剂组成物
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