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申请/专利权人：龙源电力集团股份有限公司;国家能源投资集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究院
摘要：本公开涉及提供一种Mo薄膜的制备方法和用途，包括在沉积室内通入工艺气体，通过设置于沉积室的室壁上的蝴蝶阀控制溅射沉积的沉积气压，使基片在沉积室内进行溅射沉积，以在基片表面形成Mo薄膜。本发明的制备方法实现以较低流量的工艺气体高压溅射制备Mo薄膜，显著降低工艺成本。本发明制备出的Mo薄膜表面均匀，电学性能优良，与其他较高流量工艺气体条件下制备的Mo薄膜相比，在厚度、薄膜均匀性、结晶质量和电学性能上均达到一致。同时，该Mo薄膜在110晶面择优生长，可以作为多层Mo膜、CIGS等其他薄膜的优异衬底使用。
主权项：1.一种制备Mo薄膜的方法，其中，该方法包括：在沉积室内通入工艺气体，使基片在所述沉积室内进行溅射沉积，以在所述基片表面形成Mo薄膜；其中，所述工艺气体的流量与所述沉积室的体积的比例为0.1～4sccmL，通过设置于所述沉积室的室壁上的蝴蝶阀控制所述溅射沉积的沉积气压，所述沉积气压为0.5～10Pa。
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百度查询： 龙源电力集团股份有限公司 国家能源投资集团有限责任公司 北京低碳清洁能源研究院 一种Mo薄膜及其制备方法和用途
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