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一种镀膜装置 

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申请/专利权人:比尔安达(上海)新材料科技有限公司

摘要:本发明涉及镀膜设备技术领域,公开了一种镀膜装置,包括基座和多个真空镀膜容器,真空镀膜容器的顶壁设置有第一抽真空口,真空镀膜容器内设置有用于悬挂待镀膜工件的悬挂机构,基座的顶端设置有抽真空区和镀膜区,基座在镀膜区的下方开设有镀膜槽和容置槽;本发明通过引入多个独立的真空镀膜容器,并配合专门的抽真空区和镀膜区,实现了抽真空与镀膜操作的并行处理,显著缩短了工件在镀膜前的等待时间,此外,通过设置可移动的密封盘及弹性连接件,确保了在镀膜槽完成抽真空后能迅速实现与真空镀膜容器的连通,进一步优化了镀膜流程,这种设计不仅提高了镀膜作业的整体效率,还通过减少对大型真空室的依赖,降低了设备成本和操作复杂度。

主权项:1.一种镀膜装置,包括基座(1)和多个真空镀膜容器(5),其特征在于:所述真空镀膜容器(5)的顶壁设置有第一抽真空口(18),所述真空镀膜容器(5)内设置有用于悬挂待镀膜工件的悬挂机构,所述基座(1)的顶端设置有抽真空区和镀膜区,所述基座(1)在镀膜区的下方开设有镀膜槽(101)和容置槽(102),镀膜槽(101)的顶部为开口设置,所述镀膜槽(101)内设置有镀膜机构,所述基座(1)的一侧固定安装有电动推杆(22),所述电动推杆(22)的输出端与镀膜机构相连接,所述镀膜槽(101)内设置有第二抽真空口(27),所述真空镀膜容器(5)的底部开设有通槽(501),所述通槽(501)的下方设置有用于封闭通槽(501)的密封盘(6),所述真空镀膜容器(5)内腔的底部安装有弹性连接件(7),弹性连接件(7)的伸缩端贯穿真空镀膜容器(5)的底壁与密封盘(6)相连接。

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权利要求:

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