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申请/专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
摘要：本发明涉及化学机械抛光技术领域，提供一种化学机械精抛液及其制备方法和应用；采用本发明的制备方法来制备精抛液，可以获得大颗粒数较少的精抛液，且将该精抛液应用于硅晶圆的化学机械抛光，能够降低晶圆表面缺陷数。所述制备方法包括如下步骤：1）将中间混合液依次进行中间品第一级过滤和中间品第二级过滤，得到中间品；所述中间混合液为包括水、粘度调节剂和pH调节剂的混合物料，且所述中间混合液中没有添加硅溶胶；2）将硅溶胶和所述中间品混合，依次进行精抛液第一级过滤和精抛液第二级过滤，得到所述精抛液。
主权项：1.一种化学机械精抛液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1）将中间混合液依次进行中间品第一级过滤和中间品第二级过滤，得到中间品；所述中间混合液为包括水、粘度调节剂和pH调节剂的混合物料，且所述中间混合液中没有添加硅溶胶；所述中间品第一级过滤采用孔径为1μm~10μm的滤芯I，所述中间品第二级过滤采用孔径为0.053μm~1.7μm的滤芯II，且所述滤芯I和所述滤芯II的孔径比为6~19:1；所述滤芯I的材质为聚四氟乙烯或聚偏氟乙烯，所述滤芯II的材质为聚砜、聚醚砜、磺化聚醚砜或尼龙；所述中间品第一级过滤和所述中间品第二级过滤的过滤压差分别≤0.5MPa，过滤速度分别10Lmin；2）将硅溶胶和所述中间品混合，依次进行精抛液第一级过滤和精抛液第二级过滤，得到所述精抛液；所述精抛液第一级过滤采用孔径为1μm~10μm的滤芯III，所述精抛液第二级过滤采用孔径为0.11μm~3.3μm的滤芯IV，且所述滤芯III和所述滤芯IV的孔径比为3~9:1；所述滤芯III的材质为聚乙烯或聚丙烯，所述滤芯IV的材质为聚乙烯或聚丙烯；所述精抛液第一级过滤和所述精抛液第二级过滤的过滤压差分别≤0.5MPa，过滤速度分别6Lmin。
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百度查询： 万华化学集团电子材料有限公司 一种化学机械精抛液及其制备方法和应用
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