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芯片及其制备方法 

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申请/专利权人:度亘核芯光电技术(苏州)有限公司;苏州度亘垂腔芯片技术有限公司

摘要:本发明提供了一种芯片及其制备方法,涉及半导体激光器的技术领域,芯片包括:半导体层结构、介质层、导电结构和散热结构,半导体层结构的顶层为欧姆接触层;半导体层结构的顶面具有脊波导结构;介质层覆盖半导体层结构的顶面;沿第一方向,芯片包括靠近前腔面的第一部分和远离前腔面的第二部分;介质层包括属于第一部分的第一介质层,以及属于第二部分的第二介质层;第二介质层具有与脊波导结构位置对应的窗口,导电结构通过窗口与第二部分的欧姆接触层的顶面连接;第一介质层的厚度h1小于第二介质层的厚度h2;第一介质层的顶面上设置有散热结构,散热结构的热导率高于介质层的热导率;导电结构与散热结构间隔设置,以形成隔热间隙。

主权项:1.一种芯片,其特征在于,包括:半导体层结构(15)、介质层、导电结构(8)和散热结构(9);所述半导体层结构(15)的顶层为欧姆接触层(7);所述半导体层结构(15)的顶面具有脊波导结构(14);所述介质层覆盖所述半导体层结构(15)的顶面;沿第一方向,所述芯片包括靠近前腔面的第一部分(16)和远离前腔面的第二部分(17);所述介质层包括属于所述第一部分(16)的第一介质层(12),以及属于所述第二部分(17)的第二介质层(13);所述第二介质层(13)具有与所述脊波导结构(14)位置对应的窗口(18),所述导电结构(8)通过所述窗口(18)与所述第二部分(17)的欧姆接触层(7)的顶面连接;所述第一方向垂直于所述前腔面;所述第一介质层(12)的厚度h1小于所述第二介质层(13)的厚度h2;所述第一介质层(12)的顶面上设置有所述散热结构(9),所述散热结构(9)的热导率高于所述介质层的热导率;在第二方向上,所述散热结构(9)完全覆盖所述脊波导结构(14),且所述散热结构(9)间隔的两外侧壁中的至少一者位于所述脊波导结构(14)的外侧;所述第二方向分别与所述第一方向和所述半导体层结构(15)的层叠方向垂直;沿所述第一方向,所述导电结构(8)与所述散热结构(9)间隔设置,以形成隔热间隙。

全文数据:

权利要求:

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