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用于粒子检测的系统和方法 

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申请/专利权人:科磊股份有限公司

摘要:本揭露实施例涉及一种用于粒子检测的系统和方法。一种暗场检验系统,其可包含:照明源,其用于产生照明光束;一或多个照明光学器件,其用于将所述照明光束沿着照明方向按离轴角引导到样本;检测器;一或多个集光光学器件,其用于基于响应于所述照明光束从所述样本收集的光在所述检测器上产生所述样本的暗场图像;及径向偏振器,其定位于所述一或多个集光光学器件的光瞳平面处,其中所述径向偏振器排斥相对于所述光瞳平面中对应于所述照明光束从所述样本的镜面反射的参考点具有径向偏振的光。

主权项:1.一种用于粒子检测的系统,其包括:照明源,其经配置以产生照明光束;一或多个照明光学器件,其经配置以将所述照明光束沿着照明方向按离轴角引导到样本;检测器;一或多个集光光学器件,其经配置以基于响应于所述照明光束从所述样本收集的光在所述检测器上产生所述样本的暗场图像;及相位掩模,其经定位于所述一或多个集光光学器件的光瞳平面处,所述相位掩模经配置以在所述光瞳平面的集光区域的两个或两个以上区中提供光的不同相移以重塑从所述样本上的一或多个粒子散射的光的点散布函数,其中所述集光区域对应于所述一或多个集光光学器件的数值孔径,其中所述相位掩模包括:第一半波板,其覆盖所述集光区域的第一四分体及与所述第一四分体相邻的所述集光区域的第二四分体,所述第一半波板经定向以沿着所述光瞳平面中对应于所述样本上的所述照明光束的入射平面中的角度的方向提供π延迟;及第二半波板,其覆盖所述集光区域的所述第二四分体及与所述第二四分体相邻的所述集光区域的第三四分体,所述第二半波板经定向以沿着所述光瞳平面中对应于与所述入射平面正交的角度的方向提供π延迟。

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