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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本发明提供了一种抽气环及一种半导体加工设备。所述抽气环包括上环、下环及边环。所述上环设于半导体加工设备的工艺腔室内部，并环绕晶圆托盘。所述下环设于所述上环之下，并与所述上环保持一抽气间隙。所述边环具有一环形凹槽。所述环形凹槽环绕所述抽气间隙。所述环形凹槽的上壁环绕并密封连接所述上环的外边缘。所述环形凹槽的下壁环绕并密封连接所述下环的外边缘。所述环形凹槽上设有至少一个抽气口，并经由所述至少一个抽气口连接外部的抽气模块。本发明可以用于提升工艺腔室对不同工艺的兼容性，从而取消在不同工艺腔室间传片来进行不同工艺的需求，以提升半导体器件的加工效率，并取消开腔更换抽气环的需求，以避免引入外部污染。
主权项：1.一种抽气环，其特征在于，包括：上环，设于半导体加工设备的工艺腔室内部，并环绕晶圆托盘；下环，设于所述上环之下，并与所述上环保持一抽气间隙；以及边环，具有一环形凹槽，其中，所述环形凹槽环绕所述抽气间隙，所述环形凹槽的上壁环绕并密封连接所述上环的外边缘，所述环形凹槽的下壁环绕并密封连接所述下环的外边缘，所述环形凹槽上设有至少一个抽气口，并经由所述至少一个抽气口连接外部的抽气模块。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 抽气环及半导体加工设备
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