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申请/专利权人：富士纺控股股份有限公司
摘要：本发明的目的在于，提供：可以抑制划痕产生的研磨垫、该研磨垫的制造方法、和使用了该研磨垫的对光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法。一种研磨垫，其具有包含微小球体的研磨层，在前述研磨层的表面存在开孔，将前述研磨层的表面处的个数分率作为基准的开孔直径的分布曲线中，在开孔直径15μm以下的区域存在峰顶，前述峰顶下的前述开孔的个数分率为15％以上。
主权项：1.一种研磨垫，其具有包含微小球体的研磨层，在所述研磨层的表面存在开孔，将所述研磨层的表面处的个数分率作为基准的开孔直径的分布曲线中，在开孔直径15μm以下的区域存在峰顶，所述峰顶下的所述开孔的个数分率为15％以上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 富士纺控股股份有限公司 研磨垫、研磨垫的制造方法和对光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法
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