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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司

摘要：本发明提供一种监控光刻机台焦点位置的方法，所述方法包括：于晶圆上形成具有第一套刻标识及第二套刻标识的前层图形，其中，所述第一套刻标识及所述第二套刻标识紧邻设置，且二者均具有间隔设置的重复图案；于所述前层图形上形成具有所述第一套刻标识及所述第二套刻标识的当层图形；获取所述第一套刻标识的第一套刻精度量测值及所述第二套刻标识的第二套刻精度量测值；根据所述第一套刻精度量测值及所述第二套刻精度量测值得到光刻机台焦点位置的偏移值。通过本发明解决以现有的方法无法简便、准确、快速地监控光刻机台焦点位置的问题。

主权项：1.一种监控光刻机台焦点位置的方法，其特征在于，所述方法包括：于晶圆上形成具有第一套刻标识及第二套刻标识的前层图形，其中，所述第一套刻标识及所述第二套刻标识紧邻设置，且二者均具有间隔设置的重复图案，所述第一套刻标识中的所述重复图案沿x方向间隔排列或沿y方向间隔排列；所述第二套刻标识中的所述重复图案沿x方向间隔排列或沿y方向间隔排列，且所述第二套刻标识中所述重复图案的排列方式与所述第一套刻标识中所述重复图案的排列方式相同，而且，所述第一套刻标识具有第一周期p1，且所述第一周期为所述重复图案的特征尺寸与相邻两个所述重复图案之间的间距值之和；所述第二套刻标识具有第二周期p2，且所述第二周期为所述重复图案的特征尺寸与相邻两个所述重复图案之间的间距值之和，所述第一周期的计算公式为：p1＝λsinθ，所述第二周期的计算公式为：p2＝λsin2θ，且λ表示照射光源的波长，θ表示照射光源的夹角；于所述前层图形上形成具有所述第一套刻标识及所述第二套刻标识的当层图形；获取所述第一套刻标识的第一套刻量精度量测值及所述第二套刻标识的第二套刻量精度量测值，所述第一套刻量精度量测值与所述当层图形中的所述第一套刻标识相对于所述前层图形中的所述第一套刻标识在x或y方向上的偏移值及在z方向上相对于最佳聚焦点位置的偏移值有关，所述第二套刻量精度量测值与所述当层图形中的所述第二套刻标识相对于所述前层图形中所述第二套刻标识在x或y方向上的偏移值相关；利用所述第一套刻量精度量测值减去所述第二套刻量精度量测值得到套刻偏差值；通过实验建模得到所述套刻偏差值与焦点位置的所述偏移值之间的关系曲线。

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