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选择性氧化铝膜沉积 

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申请/专利权人:应用材料公司

摘要:兹描述沉积膜的方法。具体而言,兹描述沉积金属氧化物膜的方法。通过将基板暴露于有机金属性前驱物,接着暴露于氧化剂,而相对于介电质层选择性地将金属氧化物膜沉积于金属层上。

主权项:1.一种沉积膜的方法,所述方法包含以下步骤:在没有三甲基铝TMA的情况下,将具有金属层及介电质层的基板暴露于有机金属性前驱物,以相对于所述介电质层选择性地将金属膜沉积于所述金属层上,所述金属膜包含铝,所述有机金属性前驱物包含大于95%的三-叔丁基铝TTBA和小于5%的以下的一或多种:双2-甲基-2-丙基-2-甲基-1-丙基铝、2-甲基-2-丙基双2-甲基-1-丙基铝和三2-甲基-1-丙基铝;清理处理腔室的所述有机金属性前驱物,将所述基板暴露于氧化剂,以与所述金属膜反应,用以将金属氧化物膜形成于所述金属层上,所述金属氧化物膜包含氧化铝;及清理所述处理腔室的所述氧化剂。

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