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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本发明提供一种物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法和装置、计算机可读介质，包括工艺腔室、阻抗监测装置和控制装置，其中，阻抗监测装置分别与屏蔽组件和控制装置电连接，用于检测屏蔽组件的对地阻抗信息，并向控制装置发送；控制装置用于根据对地阻抗信息，获得屏蔽组件的表面状态，并根据屏蔽组件的表面状态，判断下一沉积工艺是执行化合物膜层沉积工艺，还是执行金属膜层沉积工艺。本发明的方案可以更准确地确定屏蔽组件的表面状态，从而可以在避免屏蔽组件上的粒子脱落以及打火现象的基础上，降低使用成本，提高机台的使用效率。
主权项：1.一种物理气相沉积设备，包括工艺腔室，所述工艺腔室中还设置有屏蔽组件，其特征在于，还包括阻抗监测装置和控制装置，其中，所述阻抗监测装置分别与所述屏蔽组件和所述控制装置电连接，用于检测所述屏蔽组件的对地阻抗信息，并向所述控制装置发送；所述控制装置用于根据所述对地阻抗信息，获得所述屏蔽组件的表面状态，并根据所述屏蔽组件的表面状态，判断下一沉积工艺是执行化合物膜层沉积工艺，还是执行金属膜层沉积工艺。
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权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法
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