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原子层沉积设备 

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申请/专利权人:浙江晶盛机电股份有限公司;浙江求是创芯半导体设备有限公司

摘要:本实用新型公开了一种原子层沉积设备,该原子层沉积设备包括壳体、喷淋盘、进气组件、反应腔体和加热组件。喷淋盘、进气组件和反应腔体均位于壳体内,进气组件至少部分连接喷淋盘的上方并与喷淋盘连通,进气组件用于为喷淋盘提供气体;反应腔体至少部分连接在喷淋盘的下侧并与喷淋盘连通;加热组件用于加热进气组件;原子层沉积设备还包括集气块,集气块连接在喷淋盘和反应腔体上,进气组件包括若干个进气管,进气管至少部分穿设集气块并与集气块固定连接;加热组件还包括加热棒,集气块包括加热孔,加热棒设置在加热孔内。通过上述设置,加热棒通过加热集气块来加热进气管,从而提高进气组件内气体的热量,进而提高晶圆的喷涂成功率。

主权项:1.一种原子层沉积设备,包括:壳体11;喷淋盘12,所述喷淋盘12位于所述壳体11内;进气组件13,所述进气组件13位于所述壳体11内,所述进气组件13至少部分连接所述喷淋盘12的上方并与所述喷淋盘12连通,所述进气组件13用于为所述喷淋盘12提供气体;反应腔体14,所述反应腔体14位于所述壳体11内,所述反应腔体14至少部分连接在所述喷淋盘12的下侧并与所述喷淋盘12连通;加热组件16,所述加热组件16用于加热所述进气组件13;其特征在于,所述原子层沉积设备还包括集气块17,所述集气块17连接在所述喷淋盘12和所述反应腔体14上,所述进气组件13包括沿所述原子层沉积设备高度方向延伸的若干个进气管131,所述进气管131至少部分穿设所述集气块17并与所述集气块17固定连接;所述加热组件16还包括加热棒161,所述集气块17包括加热孔171,所述加热棒161设置在所述加热孔171内。

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