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申请/专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司;浙江求是创芯半导体设备有限公司
摘要：本申请公开了一种原子层沉积设备，该原子层沉积设备包括机架、反应腔室、进气管路和加热盘，反应腔室包括密封反应腔室底部的法兰，法兰内设置有第一进气道、与第一进气道连通的第一出气道以及与第一进气道连通的第二出气道，第一进气道的开口位于法兰的下表面，第一出气道和第二出气道还均与反应空间连通；进气管路用于将保护气体输送至反应空间中；加热盘位于反应空间内；升降组件用于驱动加热盘沿上下方向移动。通过上述设置，合理的流道设计使保护气体按设计的流道进行传输，让保护气体在反应腔室均匀分布，使保护气体阻止反应气体进入下腔的效果更为理想。
主权项：1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括：机架；反应腔室11，连接至所述机架，所述反应腔室11内围绕形成有反应空间，所述反应腔室11包括密封所述反应腔室11底部的法兰111，所述法兰111内设置有第一进气道1111、与所述第一进气道1111连通的第一出气道1112以及与所述第一进气道1111连通的第二出气道1113，所述第一进气道1111的开口位于所述法兰111的下表面，所述第一出气道1112和所述第二出气道1113还均与所述反应空间连通，所述第一出气道1112和所述第二出气道1113的出气方向不同；进气管路12，连通所述第一进气道1111和外部气源，用于将保护气体输送至所述反应空间中；加热盘13，至少部分穿设于所述法兰111并位于所述反应空间内；升降组件14，至少部分连接至所述机架，并用于驱动所述加热盘13沿上下方向移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江晶盛机电股份有限公司 浙江求是创芯半导体设备有限公司 原子层沉积设备
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