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申请/专利权人：BENEQ有限公司
摘要：本发明涉及一种用于原子层沉积的反应室10、装置及方法。所述反应室10包括进气口92、与所述进气口92间隔开设置的出气口102以及两个或更多个衬底支架B1、B2。所述衬底支架B1、B2中的每个衬底支架被设置成支撑两个或更多个独立衬底2，从而形成成批衬底。所述两个或更多个衬底支架B1、B2设置在所述进气口92和所述出气口102之间的所述反应室10的所述反应空间8内部，并且所述两个或更多个衬底支架B1、B2设置在所述进气口92和所述出气口102之间的一排组件中。
主权项：1.一种用于原子层沉积的反应室10，所述反应室10具有位于所述反应室10内部的反应空间8，并且被设置成在所述反应室10的所述反应空间8中在批处理中同时处理多个衬底2，其特征在于，所述反应室10包括：-进气口92，所述进气口被设置成向所述反应室10的所述反应空间8供应气体；-出气口102，所述出气口被设置成从所述反应室10的所述反应空间8排放气体，所述出气口102被设置成与所述进气口92间隔开；以及-两个或更多个衬底支架B1、B2，所述衬底支架B1、B2中的每个衬底支架被设置成支撑两个或更多个独立衬底2，从而形成成批衬底，所述两个或更多个衬底支架B1、B2设置在所述进气口92和所述出气口102之间的所述反应室10的所述反应空间8内部，并且-所述两个或更多个衬底支架B1、B2设置在所述进气口92和所述出气口102之间的一排组件中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： BENEQ有限公司 反应室、原子层沉积装置及方法
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