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申请/专利权人：上海和辉光电股份有限公司
摘要：本实用新型公开了一种成膜装置，包括：掩膜版。掩膜版包括：非镂空区和至少一个镂空区。在掩膜版朝向待成膜基板一侧的表面设置有至少一个第一凹陷部，以阻挡成膜气体向待成膜基板对应非镂空区的区域扩散。经镂空区进入的成膜气体在第一凹陷部处形成涡流，与后续经镂空区进入到非镂空区的成膜气体形成对冲，避免镂空区处的成膜气体继续向待成膜基板对应非镂空区的区域扩散，减少在待成膜基板对应非镂空区的区域成膜。
主权项：1.一种成膜装置，其特征在于，包括：掩膜版；所述掩膜版包括：非镂空区和至少一个镂空区；在所述掩膜版朝向待成膜基板一侧的表面设置有至少一个第一凹陷部，以阻挡成膜气体向所述待成膜基板对应所述非镂空区的区域扩散。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海和辉光电股份有限公司 成膜装置
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