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申请/专利权人：深圳国微福芯技术有限公司
摘要：本发明公开了一种用于DSA工艺生成先导图形OPC图形库的方法，包括：步骤1，预先设定版图的几何图形的几何特征的DSA工艺规则；步骤2，从集成电路的原始版图中搜寻几何特征符合所述DSA工艺规则的所有DSA目标图形；步骤3，为DSA目标图形生成DSA先导图形；步骤4，基于反演光刻技术为DSA先导图形生成对应的OPC掩膜图形；步骤5，重复上述步骤3和步骤4，直至所有的DSA先导图形均生成对应的OPC掩膜图形，形成先导图形OPC图形库。本发明通过生成先导图形OPC图形库，把源版图的DSA的先导图形都囊括进来，从而摆脱运行时间和资源的限制。
主权项：1.一种用于DSA工艺生成先导图形OPC图形库的方法，其特征在于，包括：步骤1，预先设定版图的几何图形的几何特征的DSA工艺规则；步骤2，从集成电路的原始版图中搜寻几何特征符合所述DSA工艺规则的所有DSA目标图形；步骤3，为DSA目标图形生成DSA先导图形，步骤4，基于反演光刻技术为DSA先导图形生成对应的OPC掩膜图形；步骤5，重复上述步骤3和步骤4，直至所有的DSA先导图形均生成对应的OPC掩膜图形，形成先导图形OPC图形库。
全文数据：
权利要求：
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