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申请/专利权人：三一硅能(株洲)有限公司
摘要：本发明涉及真空镀膜技术领域，提供一种板式CVD真空镀膜设备，包括壳体组件、两组盖体组件和送料组件。两组盖体组件分别设于壳体组件相对的两侧，并与壳体组件围设形成镀膜腔；盖体组件包括盖本体以及设于盖本体的电极组件和供气组件。送料组件包括传输组件和设为镂空结构的承载件，传输组件设于壳体组件相对的两侧，承载件搭载于传输组件，适于在传输组件的驱动下，在进料口和出料口之间进行传输，承载件将镀膜腔分隔为两个镀膜分腔，设于相应的盖本体上的电极组件和供气组件适于对承载件上的基底进行单面镀膜或双面镀膜。本发明，结构设计新颖，适应性较强，可以有效避免基底镀膜过程中进行翻片处理，提高生产节拍，提升生产效率。
主权项：1.一种板式CVD真空镀膜设备，其特征在于，包括：壳体组件，所述壳体组件设有进料口和出料口，所述进料口和所述出料口均设有阀组件；两组盖体组件，分别设于所述壳体组件相对的两侧，并与所述壳体组件围设形成镀膜腔；所述盖体组件包括盖本体以及设于所述盖本体的电极组件和供气组件，所述供气组件与供气装置相连，用于向所述镀膜腔供给气体，所述电极组件与电源组件相连，用于产生等离子体；送料组件，包括传输组件和设为镂空结构的承载件，所述传输组件设于所述壳体组件相对的两侧，所述承载件搭载于所述传输组件，适于在所述传输组件的驱动下，在所述进料口和所述出料口之间进行传输，所述承载件将所述镀膜腔分隔为两个镀膜分腔，设于相应的所述盖本体上的电极组件和供气组件适于对所述承载件上的基底进行单面镀膜或双面镀膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三一硅能(株洲)有限公司 板式CVD真空镀膜设备
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