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一种AlGaInP基反极性垂直发光二极管芯片及制备方法 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本发明提供一种AlGaInP基反极性垂直发光二极管芯片及制备方法,该芯片包括由下至上依次设置的衬底、中间层、P型半导体层、有源层及N型半导体层,P型半导体层包括P型窗口层,P型窗口层包括呈周期性交替层叠设置的AlxGa0.5‑xIn0.5P子层和AlαGa0.5‑αIn0.5P子层,AlxGa0.5‑xIn0.5P子层和AlαGa0.5‑αIn0.5P子层均掺杂有Mg元素或Zn元素,AlαGa0.5‑αIn0.5P子层的禁带宽度大于AlxGa0.5‑xIn0.5P子层的禁带宽度,AlαGa0.5‑αIn0.5P子层的Mg元素或Zn元素的掺杂浓度大于AlxGa0.5‑xIn0.5P子层的Mg元素或Zn元素的掺杂浓度,本发明可提高LED器件的出光率,提高外量子率。

主权项:1.一种AlGaInP基反极性垂直发光二极管芯片,其特征在于,包括由下至上依次设置的衬底、中间层、P型半导体层、有源层及N型半导体层,所述P型半导体层包括P型窗口层,所述P型窗口层包括呈周期性交替层叠设置的AlxGa0.5-xIn0.5P子层和AlαGa0.5-αIn0.5P子层,所述AlxGa0.5-xIn0.5P子层和所述AlαGa0.5-αIn0.5P子层均掺杂有Mg元素或Zn元素,所述AlαGa0.5-αIn0.5P子层的禁带宽度大于所述AlxGa0.5-xIn0.5P子层的禁带宽度,所述AlαGa0.5-αIn0.5P子层的Mg元素或Zn元素的掺杂浓度大于所述AlxGa0.5-xIn0.5P子层的Mg元素或Zn元素的掺杂浓度。

全文数据:

权利要求:

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